用PVD工藝由活性高分子潤滑材料聚四氟乙烯在基材表面通過磁控濺射方法加工的薄膜涂層，它能涂敷到各種形狀的表面和材料，包括金屬和塑料、玻璃等。這種室溫沉積制備的1-3微米薄膜涂層，厚度均勻、致密無針孔、不含助劑、不損傷工件、有優異的硬度和潤滑性。在醫療器械，模具上擁有廣泛的應用。

 

二硫化鉬介紹；

硫化鉬(MOS2)是熱固化的以MOS2為潤滑成分，并且含有有機粘結劑的固體潤滑劑。二硫化鉬(MOS2)有良好的耐磨損性能適用于高負荷應用場合。二硫化鉬(MOS2)適用-220℃-400℃工作環境中，涂層厚度正常范圍在5-30μm，也可以根據客戶需求適當調整。二硫化鉬(MOS2)摩擦系數可降低至0.02—0.06，具有一定的負載能力>160,000 psi ASTM 2625,具有一定的防腐蝕性能。